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 產(chǎn)品型號(hào):JH-反滲透設(shè)備
產(chǎn)品型號(hào):JH-反滲透設(shè)備 更新時(shí)間:2022-11-29
更新時(shí)間:2022-11-29| 品牌 | 潔涵 | 
|---|
化妝品行業(yè)生產(chǎn)用水設(shè)備說明:
化妝品生產(chǎn)用水的要求 :
    無機(jī)離子濃度  化妝品用水需去除水中的無機(jī)離子,達(dá)到純水要求,使含鹽量降至1mg/L以下,即電導(dǎo)率需降低至1~6µs/cm2。 
    微生物的污染 化妝品衛(wèi)生標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定:一般化妝品細(xì)菌總數(shù)不得大于1000個(gè)/mL或1000個(gè)/g;眼部、口唇、口腔粘膜用化妝品及嬰兒和兒童用化妝品細(xì)菌總數(shù)不得大于500個(gè)/mL或500個(gè)/g,而糞大腸菌群、綠膿桿菌和金黃色葡萄球菌不得檢出  
化妝品生產(chǎn)用水質(zhì)量要求: 
    水的電阻率與總含鹽量的關(guān)系 水純度 電阻率(MΩ•cm,25℃) 外來電解質(zhì)含量w(×10—6) 純水 約0.1 2~5 十分純水 約1.0 0.2~0.5 超純水 約10 0.01~0.02 理論純水 18.3 0.00 
化妝品行業(yè)生產(chǎn)用水設(shè)備應(yīng)用工藝: 
    原水→原水增壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性碳過濾器→軟水器→精密過濾器→*級(jí)反滲透→紫外線殺菌器→純水箱→用水點(diǎn)(推薦工藝電導(dǎo)率≤10μS/CM) 
    傳統(tǒng)工藝:
    原水→原水增壓泵→石英砂過濾器→活性碳過濾器→復(fù)床系統(tǒng)→紫外線殺菌器→微孔過濾器→純水箱→用水點(diǎn)(傳統(tǒng)工藝電導(dǎo)率≤10μS/CM) 
化妝品行業(yè)生產(chǎn)用水工藝流程:
 §    操作簡(jiǎn)單,管路簡(jiǎn)潔緊湊,占地面積小,多重水質(zhì)過濾處理。 
    主體材質(zhì)均選用不銹鋼材料。 
§    配有紫外線殺菌裝置、活性炭過濾器、流量顯示儀和水質(zhì)檢測(cè)裝置。 
    電滲析-復(fù)床式離子交換-混合床式離子交換-微濾純水系統(tǒng)。 
    應(yīng)用場(chǎng)合 
   ◆ 護(hù)膚品生產(chǎn)用純水 
   ◆ 洗發(fā)水生產(chǎn)用純水 
   ◆ 染發(fā)劑生產(chǎn)用純水
   ◆ 牙膏生產(chǎn)用純水
   ◆ 各種清洗液生產(chǎn)用水 
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